Определение пределов оптимизации переходных характеристик выпрямительных диодов при облучении высокоэнергетическими электронами

封面

如何引用文章

全文:

开放存取 开放存取
受限制的访问 ##reader.subscriptionAccessGranted##
受限制的访问 订阅存取

详细

Показано, что измерение зависимости полной емкости полупроводникового диода от измерительной частоты позволяет оценить пределы оптимизации переходных характеристик полупроводниковых структур при облучении. Проведено исследование изменения времени восстановления обратного тока в выпрямительных диодах на основе монокристаллического кремния после облучения структуры высокоэнергетическими электронами. С увеличением суммарной плотности потока электронов облучения от 1014 до 1015 см–2 время восстановления обратного тока падает от единиц миллисекунд до десятков микросекунд. При этом параллельно с ускорением переходных характеристик структуры стремительно деградируют. Ток насыщения возрастает на два порядка: от 7 · 10–9 А/см2 до 8 · 10–7 А/см2, а последовательное сопротивление растет от 0.5 до 90 Ом. Зависимость полной емкости полупроводникового диода от измерительной частоты позволяет оценить предел оптимизации рабочей частоты: частота, на которой емкость равна половине от стационарной, с увеличением суммарной плотности потока электронов облучения растет, достигая максимума, после чего существенно снижается из-за деградации проводимости. Это может выступать важным критерием при радиационной оптимизации полупроводниковых приборов.

全文:

受限制的访问

作者简介

И. Щемеров

Национальный исследовательский технологический университет “МИСИС”

编辑信件的主要联系方式.
Email: schemerov.iv@misis.ru
俄罗斯联邦, 119049, Москва, Ленинский просп, 4

П. Лагов

Национальный исследовательский технологический университет “МИСИС”

Email: schemerov.iv@misis.ru
俄罗斯联邦, 119049, Москва, Ленинский просп, 4

С. Кобелева

Национальный исследовательский технологический университет “МИСИС”

Email: schemerov.iv@misis.ru
俄罗斯联邦, 119049, Москва, Ленинский просп, 4

В. Кирилов

Национальный исследовательский технологический университет “МИСИС”

Email: schemerov.iv@misis.ru
俄罗斯联邦, 119049, Москва, Ленинский просп, 4

А. Дренин

Акционерное общество “Российские космические системы”

Email: schemerov.iv@misis.ru
俄罗斯联邦, 111250, Москва, ул. Авиамоторная, 53

А. Мещеряков

Акционерное общество “Российские космические системы”

Email: schemerov.iv@misis.ru
俄罗斯联邦, 111250, Москва, ул. Авиамоторная, 53

参考

  1. Baliga B.J., Sun E. // IEEE Transactions on Electron Devices. 1977. V. 24. I.6. P. 685. https://doi.org/10.1109/T-ED.1977.18803
  2. Kang I.H., Kim S.C., Bahng W., Joo S.J., Kim N.K. // IEEE Transactions on Power Electronics. 2012. V. 27. № 2. P. 619. https://doi.org/10.1109/TPEL.2011.2161889
  3. Lauritzen P.O., Ma C.L. // IEEE Transactions on Power Electronics. 1991. V. 6. № 2. P. 188. https://doi.org/10.1109/63.76804.
  4. Dastfan A. // Proceedings of the 7th WSEAS International Conference on Power Systems, Beijing, China, September 15–17, 2007. Р. 48. http://www.wseas.us/e-library/conferences/2007beijing/papers/554-563.pdf
  5. Baliga B.J., Walden J.P. // Solid-State Electronics. 1983. V. 26. № 12. P. 1133. https://doi.org/10.1016/0038-1101%2883%2990140-5
  6. Щемеров И.В., Поляков А.Я., Лагов П.Б., Кобелева С.П., Кочкова А.И. и др. // Заводская лаборатория. Диагностика материалов. 2023. Т. 89. № 7. С. 25. https://doi.org/10.26896/1028-6861-2023-89-7-25-33
  7. Ладыгин Е.А. Радиационная технология твердо тельных электронных приборов // М.: ЦНИИ “Электроника”, 1976.
  8. Козловский В.В., Васильев А.Э., Емцев В.В., Оганесян Г.А., Колгатин С.Н // Научно-технические ведомости СПбГПУ. Физико-математические науки. 2011. № 122 (2). С. 13.
  9. Lax B., Neustadter S.F. // J. Appl. Phys. 1954. V. 25. P. 1148. https://doi.org/10.1063/1.1721830
  10. Айзенштат Г.И., Ющенко А.Ю. // Приборы и техника эксперимента. 2015. № 2. С. 118. https://doi.org/10.7868/S0032816215010255
  11. Schroder D.K. Semiconductor material and device characterisation. Tempe: Wiley, 2006. http://doi.org/10.1002/0471749095.ch2
  12. Dean R.H., Nuese C.J. // IEEE Transactions on Electron Devices. 1971. V. 18. № 3. Р. 151. http://doi.org/10.1109/T-ED.1971.17167
  13. Григорьев Б.И., Рудской В.А., Тогатов В.В. // ПТЭ. 1981. № 4. C. 226.
  14. Ziegler J.F., Biersack J.P., Littmark U. The Stopping and Range of Ions in Solids. New York: Pergamon Press, 1985. http://doi.org/ 10.1007/978-3-642-68779-2_5
  15. Вовк О., Марченко М., Соколов В. // Современная электроника. 2022. № 5. C. 58.
  16. Corbett J.W., Watkins G.D. // Phys. Rev. 1965. V. 138. Р. A555. https://doi.org/10.1103/PhysRev.138.A555
  17. Мальханов С.E. // Физика и техника полупроводников. 1994. Т. 28. № 8. С. 1431.

补充文件

附件文件
动作
1. JATS XML
2. Fig. 1. Volt-ampere characteristics of diodes before and after irradiation.

下载 (101KB)
3. Fig. 2. Dependence of diode capacitance on measuring frequency before and after irradiation.

下载 (102KB)
4. Fig. 3. Volt-farad characteristics of diodes before and after irradiation.

下载 (117KB)
5. Fig. 4. Recovery of the reverse current of diodes before and after irradiation.

下载 (84KB)

版权所有 © Russian Academy of Sciences, 2024